Intel，4/3/20A/18A四种新工艺都来了！EUV光刻机里程碑[Intel]？

这几年，Intel在先进制造工艺上投入颇深，按照官方说法进展也颇为顺利。

Intel 7(原来的10nm ESF增强版)已经大量用于消费级的12/13代酷睿、企业级的4代可扩展至强。

Intel 4(原来的7nm)已经做好了生产准备，将在今年下半年随着Meteor Lake 14代酷睿的发布提升产能。

值得一提的是，上个季度内，Intel的第一台大容量EUV光刻机在欧洲成功产生了13.5nm波长的光源，这是实现Intel 4工艺大规模量产的一个里程碑。

Intel 3正在按计划推进中。

Intel 20A、Intel 18A均已经完成了测试芯片的流片，它们将引入RibbonFET环绕栅极晶体管、PowerVia后端供电两大关键新技术。

Intel一直没有明确3、20A、18A工艺所对应的具体产品，但是酷睿后边的家族代号早已经公布了多代：Arrow Lake、Lunar Lake、Panther Lake、Nova Lake